设备基本介绍：
1、设备主要适合磷酸铁锂、钴酸锂、锰酸锂等体系电池正、负极片涂布工艺。
2、设备可实现运行基材厚度：铝箔：11～30um 铜箔：8～30um；
3、涂布最大宽度：500mm
4、机械走带最大速度：6m/min速度精度为：±0.1m/min，
涂布速度：＞6m/min （磷酸铁锂材料除外）
6、适合浆料黏度：1500~15000 Cps适合涂布单面干厚度：30~200µm
7、涂布精度：干厚双面精度误差：<±0.004mm 干厚单面精度：<±0.002mm
正反面涂布对齐误差：<±0.5mm 平均长度误差：≤±0.5mm
涂布辊精度：<±0.001mm
8、卷芯内徑：采用3吋标准气胀轴
9、张力控制：低摩擦气动或配重浮辊恒张力系统（不同要求），采用张力闭环系统自动控制
10、纠偏控制精度：≤±0.3mm
11、烘箱温度控制精度：<±5℃，每段干燥箱温度独立可调
12、记数功能：记米或记片
13、涂布方式 ：连续涂布、间隙涂布