烧成气氛 增加氧分压的方法

    烧成气氛一般分为氧化、还原、中和三种。从化学反应式(1)和化学反应式(2)可以看出，三元材料的煅烧过程是氧化反应，需要消耗氧气。在扩散控制的三元材料的煅烧中，气氛的影响与扩散控制因素有关，与气孔内气体的扩散和溶解能力有关，三元材料煅烧过程中，是由阳离子扩散速率控制的，因此，在氧化气氛中煅烧，表面会聚集大量的氧气，使阳离子空位增加，有利于阳离子扩散的加速和促进煅烧，所以，三元材料的煅烧过程中要确保有足够多的氧分压。

    增加氧分压的方法有：①增加进气量和增加排气量，稀释反应产生的气体浓度；②减少煅烧量从而减少庞气的量；③纯氧气煅烧。综合生产成本来考虑，在提高产能的同时，厂家一般会选择增加进气量和排气量的方法来增加氧气分压。

    使用碳酸锂为锂源时，煅烧反应过程中会有二氧化碳和水蒸气产生；使用单水氢氧化锂为锂源时，则只产生水蒸气。按照化学反应方程式(1)和式(2)可以计算出反应过程中的理论耗氧量和产气量。以NCM523为例，计算煅烧出lkg NCM523所需要的氧气和产生的气体量见表。